4,000,000个晶体管,运行速度为34ghz,二级缓存4,最大存储容量为32tb,采用45n制程工艺。

    ad希望抢在inte的前面开启四核时代。

    两人参观完后,犹豫不决,约在一起,由阿密特给孙健打电话。

    阿尔特曼和阿密特都兼任ga的董事,虽然inte和ad是竞争对手,但两人的私人关系不错。

    ga、inte和ad既是eateh会员,还是gaeuv光刻机股份公司的重要股东。

    要是ga的光刻机和nin的光刻机制程一样,价格差不多,inte和ad都会购买ga的。

    由于be拒绝给尼康的65n制程工艺干式光刻机nr-308f专门升级双工作台系统,nr-308f装配的还是90n制程光刻机的双工作台系统,工作效率比tinannxt:2230i低15%左右,加上价格贵45%,nr-308f除了eete购买了3台,没有听说其他晶圆厂购买。

    dp-100也没有升级双工作台系统,这是一个重大劣势;预定价格3500万美元,比之前购买的tinannxt:2230i贵了2000万美元,这可以理解。

    干式光刻机和浸润式光刻机各有优缺点。

    干式工艺需要vd沉积、干显影、干蚀刻等多环节,设备占地面积为浸润式的5倍以上,综合成本约为浸润式的3倍。但干式工艺材料消耗仅为浸润式的15-110,每片晶圆能耗降低50%,长期看可减少光刻胶用量30%以上,减低供应链风险。

    但晶圆厂从浸润式光刻机换成干式光刻机,需要在光刻胶类型及涂布方式、光学系统调整、设备配套设施、工艺参数优化、成本投入变化等方面调整,工程师们需要很长的时间才能适应。

    预定45n制程的光刻机到45n制程工艺的半导体生产线量产,一般建设周期需要一年左右。

    哪家先预定dp-100,哪家就能先拿到!

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