第120章 EUV！(1/2)
回到自己的基地，康驰从他的保险柜里掏出了那张尘封了有段时间的显卡，看着显卡的系统面板陷入了沉思。
【物品：硅晶图像处理器】
【制造者：康驰】
【物品等级：7】
【经验：4/3200】
【物品状态：完好】
【物品参数：14纳米制程工艺，主频1.5GHz， 8GB ddR5显存】
【解析项目：可解析】
【通用经验：63238】
【精通点：43.6】
14纳米的芯片制程，对于一年前的康驰来说，似乎是一件遥不可及的黑科技，
但经过了这一年多的发展，已经在国内科技领域建立了一定声望的他，却不禁开始思考到底有没有必要，去解析一台14纳米的光刻机技术了……
纵观整个华国的芯片产业，在国家的大力扶持和发展下，其实大部分的技术都已经攻克了。
上游的原材料有了大汉硅业，
中游的关键设备蚀刻机有中葳，
他们已经掌握了5纳米的蚀刻工艺，成了全球五大蚀刻机供应商之一，
甚至连全球最大的晶圆厂台机电，都在向中葳采购蚀刻机。
而在光刻领域，国内其实也在齐头并进，
比如吴利鸿那边，主要就在负责光刻胶的研发，目前也已经取得了一定的突破。
同时，信越化工等光刻胶材料商，在吸取了硅片失利的教训之后，已经转变了思路，不再像以前那样动不动就涨价限量把华国逼的太紧，转而开始了降价促销之路。
所以至少以目前的形势来看，光刻胶的研发已经不再紧迫紧迫了。
剩下的，就是人们最熟知的光刻机了。
光刻机这玩意在晶圆制造中，也确实是最难的，但在无数华国科研工作者的努力下，一座座的技术高峰都已经陆续被征服。
攻克EUV光刻机，也只是时间早晚的问题。
作为全球唯一一家能生产 EUV极紫外光刻机的企业，阿斯麦CEo老温的说辞，更是华国光刻机研发进程最真实的写照。
一开始他说：“就算将光刻机的图纸拿给华国人，华国人也制造不出先进的光刻机。”
后来光刻机断供，华国开始全力研发光刻机并捷报频频。
这货又连忙改口说：“其实物理定律全世界都一样，华国人没道理造不出来。”
变脸之快，都可以去演川剧了……
同时为了保住在华国市场，他们还疯狂向华国出口dUV光刻机。
综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的dUV光刻机，而是7纳米以内高端制程的EUV光刻机。
这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。
目前魔都微电子已经可以量产，90nm制程的dUV光刻机了，
28nm的dUV浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。
而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。
比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28nm的dUV浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，
因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。
所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。
而以如今的康驰的成就，就算造出了EVU光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……
想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！
通用经验-3196！
随着一道微光闪过，这张显卡的外形再次发生了变化。
【物品：硅晶图像处理器】
【制造者：康驰】
【物品等级：8】
【经验：0/9600】
【物品状态：完好】
【物品参数：9纳米制程工艺，主频1.6GHz，12GB ddR6显存】
【解析项目：可解析】
【通用经验：60042】
【精通点：43.6】
9纳米？
这个制程就有点暧昧了啊……
属于EUV和dUV都能造的制程。
不过最低7nm，毕竟只是浸没式dUV光刻机的理论最小工艺节点，也就是技术压榨到极致才能做到的。
以系统的逼格之高，应该不至于这么小气，把一项技术压榨到这么极限给自己吧？
所以这个9纳米制程，大概率还是EUV光刻机造的。
康驰打开解析面板，看到上面写着‘9纳米光刻机制造工艺’需要消耗40点精通点，比之前多出10点也进一步佐证了康驰的猜测。
好在康驰这段时间搓了挺多镜头
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【物品：硅晶图像处理器】
【制造者：康驰】
【物品等级：7】
【经验：4/3200】
【物品状态：完好】
【物品参数：14纳米制程工艺，主频1.5GHz， 8GB ddR5显存】
【解析项目：可解析】
【通用经验：63238】
【精通点：43.6】
14纳米的芯片制程，对于一年前的康驰来说，似乎是一件遥不可及的黑科技，
但经过了这一年多的发展，已经在国内科技领域建立了一定声望的他，却不禁开始思考到底有没有必要，去解析一台14纳米的光刻机技术了……
纵观整个华国的芯片产业，在国家的大力扶持和发展下，其实大部分的技术都已经攻克了。
上游的原材料有了大汉硅业，
中游的关键设备蚀刻机有中葳，
他们已经掌握了5纳米的蚀刻工艺，成了全球五大蚀刻机供应商之一，
甚至连全球最大的晶圆厂台机电，都在向中葳采购蚀刻机。
而在光刻领域，国内其实也在齐头并进，
比如吴利鸿那边，主要就在负责光刻胶的研发，目前也已经取得了一定的突破。
同时，信越化工等光刻胶材料商，在吸取了硅片失利的教训之后，已经转变了思路，不再像以前那样动不动就涨价限量把华国逼的太紧，转而开始了降价促销之路。
所以至少以目前的形势来看，光刻胶的研发已经不再紧迫紧迫了。
剩下的，就是人们最熟知的光刻机了。
光刻机这玩意在晶圆制造中，也确实是最难的，但在无数华国科研工作者的努力下，一座座的技术高峰都已经陆续被征服。
攻克EUV光刻机，也只是时间早晚的问题。
作为全球唯一一家能生产 EUV极紫外光刻机的企业，阿斯麦CEo老温的说辞，更是华国光刻机研发进程最真实的写照。
一开始他说：“就算将光刻机的图纸拿给华国人，华国人也制造不出先进的光刻机。”
后来光刻机断供，华国开始全力研发光刻机并捷报频频。
这货又连忙改口说：“其实物理定律全世界都一样，华国人没道理造不出来。”
变脸之快，都可以去演川剧了……
同时为了保住在华国市场，他们还疯狂向华国出口dUV光刻机。
综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的dUV光刻机，而是7纳米以内高端制程的EUV光刻机。
这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。
目前魔都微电子已经可以量产，90nm制程的dUV光刻机了，
28nm的dUV浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。
而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。
比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28nm的dUV浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，
因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。
所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。
而以如今的康驰的成就，就算造出了EVU光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……
想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！
通用经验-3196！
随着一道微光闪过，这张显卡的外形再次发生了变化。
【物品：硅晶图像处理器】
【制造者：康驰】
【物品等级：8】
【经验：0/9600】
【物品状态：完好】
【物品参数：9纳米制程工艺，主频1.6GHz，12GB ddR6显存】
【解析项目：可解析】
【通用经验：60042】
【精通点：43.6】
9纳米？
这个制程就有点暧昧了啊……
属于EUV和dUV都能造的制程。
不过最低7nm，毕竟只是浸没式dUV光刻机的理论最小工艺节点，也就是技术压榨到极致才能做到的。
以系统的逼格之高，应该不至于这么小气，把一项技术压榨到这么极限给自己吧？
所以这个9纳米制程，大概率还是EUV光刻机造的。
康驰打开解析面板，看到上面写着‘9纳米光刻机制造工艺’需要消耗40点精通点，比之前多出10点也进一步佐证了康驰的猜测。
好在康驰这段时间搓了挺多镜头