第361章 你滴侵权滴(1/2)
“什么完了？你说清楚！”马丁有些不悦。
汉斯终于把电脑连上了大屏幕。
屏幕上出现了一份专利文档的扫描件。
那是一份来自wIpo（世界知识产权组织）的pct国际专利申请书。
【专利名称：一种基于流体局域约束的浸没式光刻头装置】
【摘要：本发明涉及一种光刻机浸没式系统，特别是利用高速旋转气帘与负压抽吸结构，实现液体在透镜与工件台之间的稳定约束……】
马丁仅仅扫了一眼摘要，手里的香槟酒杯就“啪”的一声掉在了地上，摔得粉碎。
“这……这是我们的设计！”马丁冲到屏幕前，死死盯着那张结构图，“这不可能！这是绝密！我们的原型机上周才定型！这图纸上的结构，跟我们的几乎一模一样！气帘角度、负压参数……这怎么可能？！”
“是我们内部出了间谍吗？！”埃里克咆哮道，“是谁把图纸泄露出去了？！”
“不，不是泄密……”汉斯绝望地闭上了眼睛，“如果是泄密还好办，我们可以起诉窃取商业机密。但最可怕的是……这不是我们的图纸。”
汉斯颤抖着手指，指向了文档右上角的那个日期。
【优先权日（priority date）：2003年9月20日】
【申请人：光刻未来科技有限公司（Lithography Future tech co., Ltd.）】
会议室里瞬间死一般的寂静。
所有人都知道这个日期的含义。
2003年9月，那是大半年前。
那个时候，ASmL的浸没式项目还在进行流体力学模拟，连第一颗螺丝都还没拧上去。
而这个神秘的“光刻未来”，竟然在那个时候，就已经把整套方案构思完毕，并且申请了全球专利保护！
“这不可能……”马丁抱着头，瘫坐在地上，“那是上帝吗？怎么可能有人比我们还早半年想出这个结构？而且……而且还把所有的变种方案都堵死了！”
他翻看着后面的权利要求书（claims）。
第一条：气帘约束。
第二条：负压回收。
第三条：双层流体循环。
第四条……
每一条，都精准地卡在了ASmL原型机的咽喉上。
就像是一个预言家，提前站在了ASmL研发道路的必经之口，挖了一个深坑，埋好了地雷，然后静静地等着他们跳进来。
“能……能绕开吗？”埃里克声音干涩地问，“马丁，你是cto，你一定有办法改改结构，绕开这个专利对不对？”
马丁抬起头，眼神空洞：“怎么绕？要在高速运动的工件台上把水锁住，除了用气帘和负压，难道用爱吗？这是物理学的最优解！只要我们要造浸没式光刻机，就必须用这个结构！只要用这个结构，就是侵权！”
侵权。
这两个字像大山一样压了下来。
如果是普通专利也就罢了，赔点钱。
但这可是核心基础专利（core patent）。没有授权，他们的机器就是非法的。一台都不能卖！
那三十亿美金的订单……那是三十亿美金的毒药！
如果接了单，造了机器，对方申请法院禁令，这批机器就会被海关扣押，ASmL将面临天文数字的赔偿金！
“这家公司是谁？”埃里克像头受伤的野兽，“光刻未来？哪来的公司？美国人？还是日本人？”
汉斯咽了口唾沫：“查过了。注册地在开曼群岛，但实际控制人……在北京。一家……看起来像是皮包公司的中国企业。”
“中国？！”
“那个连光刻机光源都造不利索的中国？”
一群欧洲精英面面相觑，感觉像是听了一个荒谬的笑话。
但此时，这个笑话正拿着枪，顶在他们的脑门上。
耐心等待夜晚降临林平安，此刻正在悠闲的喝着咖啡。
“叮叮当。。”（小白截获后转接到了林平安这。）
“你好，光刻未来。”林平安用流利的英语说道。
电话那头传来一个极力压抑着焦虑的声音：
“您好……我是ASmL公司法务部的代表。我们注意到贵公司持有一项关于流体约束的专利……咳咳，我们非常有兴趣与贵公司探讨一下……技术授权的可能性。”
对方的态度很卑微，措辞很小心。完全没有了半导体巨头的傲慢。
林平安笑了。
“哦，ASmL啊。听说你们最近接了个大单子？恭喜恭喜。”
电话那头明显窒息了一下。
“您……您知道了？”
“这行圈子很小的。”林平安淡淡地说，“不过很遗憾，那项专利是我们公司的核心资产。我们正准备自己造光刻机呢，暂时不打算授权。
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汉斯终于把电脑连上了大屏幕。
屏幕上出现了一份专利文档的扫描件。
那是一份来自wIpo（世界知识产权组织）的pct国际专利申请书。
【专利名称：一种基于流体局域约束的浸没式光刻头装置】
【摘要：本发明涉及一种光刻机浸没式系统，特别是利用高速旋转气帘与负压抽吸结构，实现液体在透镜与工件台之间的稳定约束……】
马丁仅仅扫了一眼摘要，手里的香槟酒杯就“啪”的一声掉在了地上，摔得粉碎。
“这……这是我们的设计！”马丁冲到屏幕前，死死盯着那张结构图，“这不可能！这是绝密！我们的原型机上周才定型！这图纸上的结构，跟我们的几乎一模一样！气帘角度、负压参数……这怎么可能？！”
“是我们内部出了间谍吗？！”埃里克咆哮道，“是谁把图纸泄露出去了？！”
“不，不是泄密……”汉斯绝望地闭上了眼睛，“如果是泄密还好办，我们可以起诉窃取商业机密。但最可怕的是……这不是我们的图纸。”
汉斯颤抖着手指，指向了文档右上角的那个日期。
【优先权日（priority date）：2003年9月20日】
【申请人：光刻未来科技有限公司（Lithography Future tech co., Ltd.）】
会议室里瞬间死一般的寂静。
所有人都知道这个日期的含义。
2003年9月，那是大半年前。
那个时候，ASmL的浸没式项目还在进行流体力学模拟，连第一颗螺丝都还没拧上去。
而这个神秘的“光刻未来”，竟然在那个时候，就已经把整套方案构思完毕，并且申请了全球专利保护！
“这不可能……”马丁抱着头，瘫坐在地上，“那是上帝吗？怎么可能有人比我们还早半年想出这个结构？而且……而且还把所有的变种方案都堵死了！”
他翻看着后面的权利要求书（claims）。
第一条：气帘约束。
第二条：负压回收。
第三条：双层流体循环。
第四条……
每一条，都精准地卡在了ASmL原型机的咽喉上。
就像是一个预言家，提前站在了ASmL研发道路的必经之口，挖了一个深坑，埋好了地雷，然后静静地等着他们跳进来。
“能……能绕开吗？”埃里克声音干涩地问，“马丁，你是cto，你一定有办法改改结构，绕开这个专利对不对？”
马丁抬起头，眼神空洞：“怎么绕？要在高速运动的工件台上把水锁住，除了用气帘和负压，难道用爱吗？这是物理学的最优解！只要我们要造浸没式光刻机，就必须用这个结构！只要用这个结构，就是侵权！”
侵权。
这两个字像大山一样压了下来。
如果是普通专利也就罢了，赔点钱。
但这可是核心基础专利（core patent）。没有授权，他们的机器就是非法的。一台都不能卖！
那三十亿美金的订单……那是三十亿美金的毒药！
如果接了单，造了机器，对方申请法院禁令，这批机器就会被海关扣押，ASmL将面临天文数字的赔偿金！
“这家公司是谁？”埃里克像头受伤的野兽，“光刻未来？哪来的公司？美国人？还是日本人？”
汉斯咽了口唾沫：“查过了。注册地在开曼群岛，但实际控制人……在北京。一家……看起来像是皮包公司的中国企业。”
“中国？！”
“那个连光刻机光源都造不利索的中国？”
一群欧洲精英面面相觑，感觉像是听了一个荒谬的笑话。
但此时，这个笑话正拿着枪，顶在他们的脑门上。
耐心等待夜晚降临林平安，此刻正在悠闲的喝着咖啡。
“叮叮当。。”（小白截获后转接到了林平安这。）
“你好，光刻未来。”林平安用流利的英语说道。
电话那头传来一个极力压抑着焦虑的声音：
“您好……我是ASmL公司法务部的代表。我们注意到贵公司持有一项关于流体约束的专利……咳咳，我们非常有兴趣与贵公司探讨一下……技术授权的可能性。”
对方的态度很卑微，措辞很小心。完全没有了半导体巨头的傲慢。
林平安笑了。
“哦，ASmL啊。听说你们最近接了个大单子？恭喜恭喜。”
电话那头明显窒息了一下。
“您……您知道了？”
“这行圈子很小的。”林平安淡淡地说，“不过很遗憾，那项专利是我们公司的核心资产。我们正准备自己造光刻机呢，暂时不打算授权。